仪器测试功能：
1、聚焦离子束系统可用于刻蚀和沉积，所刻蚀和沉积的材料可以是绝缘体，也可以是导体；
2、样品台可以实现从-10°－55°倾转，配有38°和90°样品座接口，用于高质量TEM样品制备；
3、配有专业的三维重构软件，可实现微米级材料的三维重构；
4、配有AutoTEM软件，可实现TEM样品自动制备。
仪器主要技术参数：
1、加速电压：350 V – 30 kV；
2、电子束分辨率：30 kV下分辨率为0.6 nm，1 kV分辨率0.7 nm，500 V下分辨率为1.0 nm；
3、离子束分辨率为：30 kV下分辨率为4 nm。
仪器主要应用领域：
Helios 5 UC 主要应用于纳米级透射电镜及原子探针样品的精准制备、微纳图形化刻蚀与沉积、三维“切片与观察”重构、微区成分与晶体取向分析，以及半导体器件的失效分析与电路修补。
